半導体の高性能化が進む中、前工程の微細化だけでは性能向上を実現することが難しくなっています。 近年は、パッケージングや実装など後工程が重要性を増し、それを支える材料技術が競争力の鍵となっています。 この変化は、材料メーカーにとって新たな市場参入のチャンスです。 一方で、後工程には多様な部品・デバイスが存在し、それぞれに求められる機能や材料技術は異なります。 また、多くの企業が参入を検討している中、自社材料の強みを生かせるターゲットを見極め、競合他社との差別化を図ることが、市場参入成功の重要なポイントとなります。 半導体市場への参入を検討する際、「自社材料はどの用途に使えるのか」という視点だけでは、最適なターゲットを見つけることは容易ではありません。重要なのは、用途から求められる機能を整理し、その機能を実現する材料技術へと掘り下げていくことです。 ネオテクノロジーは、特許調査コーディネーターとR&D経験豊富な技術スタッフが連携し、機能性材料・実装技 術分野で培った知見をもとに、「どこを狙うか」「どう差別化するか」を特許情報から読み解きま

100GHz～10THzのテラヘルツ波は、材料分析、イメージング、無線通信に加え、AI半導体実装向け高速伝送技術への応用が注目されています。400Gbps級の有線伝送を実現するため、基板用ポリマー材料の高周波・低損失化が進展しており、日本は高い競争力を有しています。また、電磁波の反射制御や集束、電磁シールドなどの機能も重要で、液晶、EOポリマー、有機無機コンポジット材料が活用されています。 本セミナーでは、最近の特許情報からテラヘルツ帯に及ぶ高周波対応ポリマーについて、材料、機能および用途の視点から、分かりやすく解説していきます。 研究開発の促進をしたいと考えているR&D、事業企画、知財部門の皆さまに最適なセミナーです。ぜひご参加ください。

半導体の微細化や3D構造化が進む中、製造プロセスには、より高精度かつ低ダメージな加工技術が求められています。これまで、原子レベルで膜形成を制御するALD（Atomic Layer Deposition）は、High-k材料や3D NAND、GAAトランジスタなどの進展を支える重要技術として発展してきました。 本セミナーでは、最新特許情報をもとに、ALE関連技術の研究開発動向を俯瞰的に整理します。 単なる装置技術としてではなく、 ・次世代半導体プロセスが求める加工要件 ・材料・表面処理技術への新たな要求 ・ALDからALEへと広がる原子レベル制御技術の潮流 ・ALD領域で先行する装置メーカー各社のALE関連動向 などを通じて、今後の技術進化や市場機会を読み解きます。ぜひご参加ください。

今回は「異常ネルンスト効果」に着目しました。 異常ネルンスト効果は、磁性体に熱流が流れた際、温度勾配と磁化に直交する方向に電界が生じる三次元的現象です。 一次元的なゼーベック効果と異なり、熱流に対して直交方向で信号取得が可能であるため、発電にとどまらず、センシングやエネルギー回収など多様な応用展開が期待されています。

今回は「テラヘルツ」に注目し、米国の名門大学であるマサチューセッツ工科大学（MIT）が取得した特許7761315「テラヘルツビーム・ステアリング・アンテナアレイ」を事例に取り上げます。 学ぶべきは「大学特許の取り方」この事例が示唆するポイントは、技術そのもの以上に大学による特許戦略の巧みさにあります。これから重要性が高まる産学連携と知財戦略の構築には参考になる点が多そうです。

セミナー概要 本セミナーでは、放熱技術を中心に最近のシミュレーション技術を含む技術動向について、 最近の特許情報を基に、分かりやすく解説していきます。 設計や製造の場で数値解析がどのように活用されているかなど、特許情報から具体例を取り上げます。シミュレーション手法も現在では...

ネオテクロジーは、2022年7月20日（水）～7月22日（金）に東京ビックサイトで開催される「TECHNO-FRONTIER2022：電源システム展」に出展します。【ブース3A－07】ぜひお越しください。

ネオテクノロジーは、モータ用インバータに関する国内特許情報を継続的にウォッチングしています。毎月、その中から技術者に役立つ注目発明をお届けします。 大型化および高コスト化を抑制しつつデッドタイムを短縮する 上下アーム短絡防止としてデットタイムを設けているが、その期間にスイッ...