半導体の微細化や3D構造化が進む中、製造プロセスには、より高精度かつ低ダメージな加工技術が求められています。これまで、原子レベルで膜形成を制御するALD（Atomic Layer Deposition）は、High-k材料や3D NAND、GAAトランジスタなどの進展を支える重要技術として発展してきました。 本セミナーでは、最新特許情報をもとに、ALE関連技術の研究開発動向を俯瞰的に整理します。 単なる装置技術としてではなく、 ・次世代半導体プロセスが求める加工要件 ・材料・表面処理技術への新たな要求 ・ALDからALEへと広がる原子レベル制御技術の潮流 ・ALD領域で先行する装置メーカー各社のALE関連動向 などを通じて、今後の技術進化や市場機会を読み解きます。ぜひご参加ください。

本セミナーは終了いたしました。アーカイブ配信をお待ちください。 ■セミナー概要 　車載用バッテリーを正常に機能させ続けるためには、ある一定の適正温度内にコントロールする必要があります。一方、バッテリーモジュールは多数の円筒電池セルもしくはパックで構成されていますが、モジュー...