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自己組織化を用いた半導体プロセスのリソグラフィ技術
半導体製造プロセスの中で自己組織化技術を用いたことを特徴とした特許情報を取り上げました。 また、自己組織化を特徴とした特許情報の中で、特に半導体分野での用途を狙っている特許情報を取り上げました。

自己組織化を用いた半導体プロセスのリソグラフィ技術

¥275,000価格
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