調査対象とした技術は、ナノインプリントを対象とする技術です。 型（モールド）を被加工体に対して機械的に接触させ（押圧とは限らない）、被成形体との接触面に微細な凹凸等の形状や表面濡れ性の異なる領域（パターン）を賦型する微細加工技術をを取り上げました。 基本的にμかナノレベルの微細性があり、型（モールド）を用いて被加工体に型が接触すること、パターンが形成されることを条件といたしました。 ナノインプリント用材料、成型装置、金型（モールド）、剥離転写等の工程プロセス、測定技術、被加工体、適用用途などを取り上げ、ナノインプリント技術を研究開発する技術的観点から関連があると思われる特許情報は採用しました。 なお、微細性が判断できず、微細性を除けばナノインプリントにも該当すると言えそうな場合も取り上げました。 また、例えば、流体噴射やインクジェット（液滴）、フォトリソ（光）のように、「型」を用いない微細なプリント技術、画像等のプリンタなど、一般の印刷を対象とするプリント技術は除きました。 ただし、インクジェットを用いても、ナノインプリント被加工体の塗布をインクジェットで行う場合には取り上げました。 フォトリソグラフ装置、リソグラフ装置でもナノインプリントと特定できない場合、ナノレベルであっても分子インプリントは除きました。